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核磁気共鳴装置 0403電磁気分析装置／東海大学

概要参照
化合物の構造解析、定量に用いられる。
仕様：[共鳴周波数]

■利用料：料金設定未定

スパッタ装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

絶縁薄膜、酸化薄膜、金属薄膜生成や多層の薄膜生成などに用いる
物質に膜を付ける方法。真空チャンバー内に薄膜としてつけたい金属をターゲットとして設置し、高電圧をかけてイオン化させた希ガス元素や窒素を衝突させるとターゲット表面の原子がはじき飛ばされ、基板に到達して製膜することが出来る
仕様：アップスパッタ方式カソード基(φ4″)基板:4基

■利用料：要相談

マスクアライナー 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

半導体製造のホトリソ工程においての微細な位置合わせとパターン焼付けを行う
半導体製造のホトリソ工程においてシリコンウエーハ、ガラスなどの基板に対して、高精度に製作されたマスクガラスのパターンをミクロレベルの精度で位置合わせとパターン焼付けを行う装置
仕様：[基板サイズ]2インチ〜150mm[焼付方法]プロキシミティ（ギャップ1〜300μｍ）、バキュームコンタクト、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト

■利用料：要相談

マスクアライナー 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

半導体製造のホトリソ工程においての微細な位置合わせとパターン焼付けを行う
半導体製造のホトリソ工程においてシリコンウエーハ、ガラスなどの基板に対して、高精度に製作されたマスクガラスのパターンをミクロレベルの精度で位置合わせとパターン焼付けを行う装置
仕様：[基板サイズ]〜φ3″[焼付方法]プロキシミティコンタクト

■利用料：要相談

真空蒸着装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

光半導体素子の電極形成用金属蒸着に用いる。特に有機ＥＬ研究用に適した蒸着装置
真空蒸着装置は、容器内を真空状態にして金属などの物質に熱を加えて蒸発させ、気体にし、真空中で金属などの物質の分子が基板にぶつかり、張り付くことで、コーティングを行う。特に有機ＥＬ研究用に適した蒸着装置
仕様：[蒸発源]抵抗加熱蒸着源対応8源（同時蒸着3源）[主排気系]ターボ分子ポンプ[基板サイズ]最大100mm角[排気操作]自動排気[蒸着モニター]インフィコン製ＸＴＭ／２２式搭載

■利用料：要相談

真空蒸着装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

各種デバイスの電極膜付け。反射膜作成用途(アルミ蒸着等)
真空蒸着装置は、容器内を真空状態にして金属などの物質に熱を加えて蒸発させ、気体にし、真空中で金属などの物質の分子が基板にぶつかり、張り付くことで、コーティングを行う
仕様：[到達圧力]6.5×10-4Pa液体窒素トラップ使用[内径]φ300×300Hガラスベルジャー採用[油拡散ポンプ]240L/sec200L/sec

■利用料：要相談

真空蒸着装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

光半導体素子の電極形成用金属蒸着に用いる
真空蒸着装置は、容器内を真空状態にして金属などの物質に熱を加えて蒸発させ、気体にし、真空中で金属などの物質の分子が基板にぶつかり、張り付くことで、コーティングを行う
仕様：3元蒸着源TMPによる排気ベーキング（内部ヒータ及びベルジャーシースヒータ）[到達圧力]5×10-5Pa以下[排気特性]5×10-5Pa台まで荒引き開始後90分程度

■利用料：要相談

リアクティブイオンエッチング装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

半導体や電子デバイスの微細加工に用いる
装置チャンバー内でプラズマ（放電）を発生させ、その内部で生成したイオンやラジカルを利用して処理物を加工するエッチング方法
仕様：[処理能力]φ2×10枚φ3×5枚φ4×3枚電極間距離可変機能有[均一性]5％以下(SiO2)

■利用料：要相談

リアクティブイオンエッチング装置 0901エレクトロニクス関連機器・装置／千歳科学技術大学

DVD、CDのスタンパー作成用の原盤のエッチングやHDDヘッドの加工、光導波路の製作、各種センサーの製作
Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置
仕様：[処理能力]8インチウエハー×1[ガス種]ArO2H2CH4CHF3

■利用料：要相談

ダイシングソー 0110粉砕・分級機器／千歳科学技術大学

シリコンウエハ等をチップ状に分割するために用いられる
フランジの内側にブレードと呼ばれるダイアモンド砥石が取り付けられこれを高速回転させて集積回路を形成した単結晶シリコンウエハを賽の目状に分割する。50μm以下の厚みで正確に切り出すことが出来、刃厚は20〜60μmで、切りしろを最小限にすることが出来る
仕様：[切削可能範囲]Ｘ軸:220mmY軸:162mm[移動分解能]Ｚ軸:0.0001mm[スピンドル最大回転数]40000rpm

■利用料：要相談

赤外線加熱単結晶製造装置（FloatingZone炉） 0102熱処理用機器／千歳科学技術大学

ＴｉＡｌMoSi2等の金属間化合物ならびにAｌ2O3等のセラミックスの作製
光を集光して無機化合物を溶かし再結晶化させることで単結晶を作製することができる
仕様：[光源]キセノンランプ[最高加熱温度]2700℃[結晶成長速度]0.2〜50mm/h

■利用料：要相談

触針式表面形状測定器 0506工業量測定・試験機器／千歳科学技術大学

直径150mm以下の基板上に形成された、膜厚段差、表面形状、あらさ、うねりの測定
直径150mm以下の基板上の膜厚段差、表面粗さ、うねりなどを高精度に測定できる触針式の表面形状測定器。サンプル観察用にカラーズームカメラを標準装備
仕様：[垂直分解能/測定レンジ]1Å/65kÅ10Å/655kÅ40Å/2620kÅ[測定長さ]50μm〜30mm[最大サンプリングデータ数]30000点

■利用料：要相談

走査型プローブ顕微鏡 0403電磁気分析装置／千歳科学技術大学

原子・分子像の微細構造まで試料処理を行うことなく観察を行う事が出来る
大気圧中で観察可能な走査型プローブ顕微鏡でヘッドを交換することにより走査型トンネル顕微鏡（STM）と原子間力顕微鏡（AFM）の両方の観察ができる
仕様：[分解能]AFM原子分解能STM原子分解能[試料サイズ]10×10×3mm[走査範囲]10〜80μm

■利用料：要相談

X線解析装置 0403電磁気分析装置／千歳科学技術大学

金属、地質・鉱物、セラミックス、化学、電気・電子工学など
原子間の距離と同程度の波長のＸ線を用い、そのＸ線の入射角を連続的に変えて試料に照射し、回折してくるＸ線を測定し、入射角と回折Ｘ線強度の関係を示す回折図形を得る
仕様：[定格出力]2kW[管電圧設定]20kW〜60kW[管電流設定]2mA〜50mA空冷式冷却送水装置付

■利用料：要相談

走査型近接場光学顕微分光システム 0114顕微鏡・光学検査機器／千歳科学技術大学

極微小領域での観察、キャラクタリゼーションに用いる
近接場プローブ先端に発生した近接場光を利用して、試料表面の極微小領域を光励起して発生する、蛍光やフォトルミネッセンスを分光測定することができる
仕様：[波長分解能]0.5nm以下[測定波長範囲]500〜1000nm(使用するプローブに依存)(使用するプローブに依存)[検出器]電子冷却または液体窒素冷却マルチチャンネルCCD検出器

■利用料：要相談

分光蛍光光度計 0402光分析装置／千歳科学技術大学

ライフサイエンス医薬食品化学環境といった微量分析に適している
高スループット光学系と低ノイズ信号処理系により高感度な蛍光測定が可能（ＳＮ比：200）。また、高分解(1.0nm)、リン光測定対応、高速時間変化測定対応、バリデーション用低圧水銀ランプ内蔵などの優れた機能を有する。
仕様：[S/N]200[波長範囲]励起・蛍光側220-750nm[スペクトルバンド幅]励起側：1351020nm蛍光側：510nm

■利用料：要相談

顕微赤外測定システム 0402光分析装置／千歳科学技術大学

有機物、プラスチック等の分析、同定を行う
フーリエ変換を利用して赤外光の各波長における吸収強度を調べる装置。原子どうしの結合はそれぞれ赤外線領域に固有の振動数を持っているが、この振動数を測定することで、分子内の結合に関する情報を得ることができる
仕様：[波数範囲]7800cm-1〜350cm-1[分解]0.5cm-11cm-12cm-14cm-18cm-116m-1[波数精度]±0.125cm-1以下

■利用料：要相談

表面分析装置 0402光分析装置／千歳科学技術大学

仕事関数やイオン化ポテンシャルの絶対値、フェルミ準位近傍の電子状態密度を大気中にて測定できる
大気中において、紫外線励起による光電子数を計測し、サンプル表面を分析するもので、低エネルギー電子計数装置を用いたもの
仕様：[光源]重水素ランプ[エネルギー走査範囲]3.40〜6.20eV[分光器]グレーティングモノクロメーター[最大サンプ形状]150mm角、厚さ15mm

■利用料：要相談

顕微分光システム 0402光分析装置／千歳科学技術大学

ラマン分光法を用いて化学分析や分子構造の決定を行う
低波数域でのマルチチャンネル測定が可能な差分散モードをはじめ、高分解能が得られる加分散モード、通常の差分散モードよりもさらに広い波長範囲が同時測定できる低分散グレーティング採用などCCDの性能を十分に発揮させることができる
仕様：[光学配置]トリプルモノクロメータ[焦点距離]640mm[測定可能波長範囲]0〜1000nm[波数分解能と精度]それぞれ0.15cm-1と0.1cm-1[CCD検出器]2000×800ピクセル

■利用料：要相談

赤外励起顕微ラマン装置 0402光分析装置／千歳科学技術大学

ラマン分光法を用いて化学分析や分子構造の決定を行う。
近赤外線を用いるため、通常の可視ラマン装置に比べ、蛍光の影響を受けにくく、InGaAsMCDディテクタを用いるにより高性能である。
仕様：[波長]1064nm[焦点距離]320mm

■利用料：要相談

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